半導体用真空室

真空室

TE は、システムに混入する汚染物質を防止して漏れを減少させるのに必要な信頼性の高い部品を提供します。

シール型接続の提供

真空室は、重要な蒸着工程やエッチング工程など、半導体製造プロセスで広く使用されています。原子層蒸着 (ALD) などの新しいプロセスでは、化学蒸着 (CVD) 技術や物理蒸着 (PVD) 技術よりも高い真空レベルが必要です。しかし、高性能な真空室の製造・運用・維持は難しいことで知られています。

 

プロセスの汚染を防止するため、真空室に使用される部品や材料のガス放出を少なくすることが非常に重要です。真空室を出入りする電気接続は、真空度低下を防ぐために適切に密閉する必要があります。プロセスの要件が増えて真空要件が高まるにつれて、OEM はこれらのあらゆる要素を考慮して制御します。これも、多くの OEM が Industry 4.0 によって可能になるスマート製造能力を指向する理由の 1 つです。

真空室

真空室への接続

信頼性の高い電気接続を真空室に導入し、真空体積を節約して漏れを減少させることができます。

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真空室のワイヤ

低ガス放出性ワイヤによって真空と半導体のウェハの汚染可能性を大幅に低減します。

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