Câmara de Vácuo

As câmaras de vácuo são muito usadas no processo para fabricação de semicondutores, inclusive nas fases críticas de deposição e gravação. Processos mais recentes, como deposição de camada atômica (ALD – Atomic Layer Deposition), exigem níveis de vácuo ainda mais altos do que as técnicas de deposição química de vapor (CVD – Chemical Vapor Deposition) ou deposição física de vapor (PVD – Physical Vapor Deposition). No entanto, uma câmara de vácuo é notoriamente difícil de construir, operar e manter em um nível de alto desempenho.

Para não contaminar o processo, é fundamental que os componentes e os materiais usados na câmara de vácuo tenham baixa desgaseificação. As conexões elétricas que entram e saem da câmara devem ser devidamente vedadas para evitar a perda de vácuo. À medida que as necessidades de processo crescem e os requisitos de vácuo aumentam, os OEMs controlam constantemente todos esses fatores, que é outro motivo pelo qual muitos recorreram aos recursos de fabricação inteligente compatíveis com a Indústria 4.0.